光學(xué)膜厚儀的薄膜光譜反射系統(tǒng)，可以很簡(jiǎn)單快速地獲得薄膜的厚度及n&k，采用r-θ極坐標(biāo)移動(dòng)平臺(tái)，可以在幾秒鐘的時(shí)間內(nèi)快速的定位所需測(cè)試的點(diǎn)并測(cè)試厚度，可隨意選擇一種或極坐標(biāo)形、或方形、或線性的圖形模式，也可以編輯自己需要的測(cè)試點(diǎn)。針對(duì)不同的晶圓尺寸，盒對(duì)盒系統(tǒng)可以很容易的自動(dòng)轉(zhuǎn)換，匹配當(dāng)前盒子的尺寸。49點(diǎn)的分布圖測(cè)量只需耗時(shí)約45秒。
光學(xué)膜厚儀的主要特點(diǎn)：
*基片折射率和消光系數(shù)測(cè)量；
*薄膜厚度測(cè)量，平均值和標(biāo)準(zhǔn)偏差分析；
*薄膜折射率和消光系數(shù)測(cè)量；
*適用于不用材質(zhì)和厚度的薄膜、涂層和基片；
*測(cè)試數(shù)據(jù)輸出和加載；
*直接Patterned或特征機(jī)構(gòu)的試樣測(cè)試；
*可用于實(shí)時(shí)在線薄膜厚度、折射率監(jiān)測(cè)；
*波長(zhǎng)范圍可選；
*系統(tǒng)配備強(qiáng)大的光學(xué)常數(shù)庫(kù)和材料數(shù)據(jù)庫(kù)，便于測(cè)試和數(shù)據(jù)分析。
光學(xué)膜厚儀廣泛應(yīng)用于各種薄膜、涂層光學(xué)常數(shù)和厚度的測(cè)量，設(shè)備分為在線和離線兩種工作模式，操作便捷，幾秒鐘內(nèi)即可完成測(cè)量和數(shù)據(jù)分析，USB 連接計(jì)算機(jī)控制；
薄膜表面或界面的反射光會(huì)與從基底的反射光相干涉，干涉的發(fā)生與膜厚及折光系數(shù)等有關(guān)，因此可通過(guò)計(jì)算得到薄膜的厚度。光干涉法是一種無(wú)損、且快速的光學(xué)薄膜厚度測(cè)量技術(shù)，我們的薄膜測(cè)量系統(tǒng)采用光干涉原理測(cè)量薄膜厚度。
